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日本研发出氧化镓低成本制法,有望促进功率半导体升级
日本研发出氧化镓低成本制法,有望促进功率半导体升级
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日本东京农工大学与日本酸素控股株式会社合作,共同开发出新一代功率半导体“氧化镓”的低成本制法。该方法利用气体供应原料,在基板上制造晶体,可以减少设备的维护频率,也可以降低运营成本。 日本酸素控股表示,正在准备新型设备的商用化,客户有需求即可供货。 这种制造氧化镓的新方法属于“有机金属化学气相沉积(MOCVD)法”,通过在密闭装置内充满气体状原料,可以在基板上制造出氧化镓的晶体。 目前现有的制法是“氢化物气相外延(HVPE)法”,化学气相沉积新制法可以制成此前实现不了
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