日本东京农工大学与日本酸素控股株式会社合作，共同开发出新一代功率半导体“氧化镓”的低成本制法。该方法利用气体供应原料，在基板上制造晶体，可以减少设备的维护频率，也可以降低运营成本。 日本酸素控股表示，正在准备新型设备的商用化，客户有需求即可供货。 这种制造氧化镓的新方法属于“有机金属化学气相沉积（MOCVD）法”，通过在密闭装置内充满气体状原料，可以在基板上制造出氧化镓的晶体。 目前现有的制法是“氢化物气相外延（HVPE）法”，化学气相沉积新制法可以制成此前实现不了[登陆后可查看全文]