中自数字移动传媒

立即订阅 自动化企业自己的杂志
服务热线 0755-82904254

当前位置:首页 >>精选文章 >>日本研发出氧化镓低成本制法,有望促进功率半导体升级

日本研发出氧化镓低成本制法,有望促进功率半导体升级

作 者: 单 位: 阅读 6702
  日本东京农工大学与日本酸素控股株式会社合作,共同开发出新一代功率半导体“氧化镓”的低成本制法。该方法利用气体供应原料,在基板上制造晶体,可以减少设备的维护频率,也可以降低运营成本。 日本酸素控股表示,正在准备新型设备的商用化,客户有需求即可供货。 这种制造氧化镓的新方法属于“有机金属化学气相沉积(MOCVD)法”,通过在密闭装置内充满气体状原料,可以在基板上制造出氧化镓的晶体。 目前现有的制法是“氢化物气相外延(HVPE)法”,化学气相沉积新制法可以制成此前实现不了[登陆后可查看全文]
用户登录关闭
用户名:
密 码:
注册