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国产宽禁带半导体功率器件领域取得新进展

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   6月27日,深圳平湖实验室 联合深圳市鹏进高科技有限公司,在国产宽禁带半导体功率器件领域取得重大突破,其成功攻克1200V沟槽栅碳化硅MOSFET芯片核心技术难题,并构建了8英寸工艺平台,实现自主知识产权8英寸高性能1200V沟槽栅碳化硅MOSFET芯片的成功流片,其专利公开号为CN118610269A。 图片来源:深圳平湖实验室 图为8英寸高性能沟槽栅SiC MOSFET结构(专利)示意图及芯片剖面图   该芯片的静态性能指标实现了业内领先的低比导通电阻(<2.1mΩ·cm²),优于国际主流高可靠厂商的技术水平(如[登陆后可查看全文]
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