今日，七彩化学在投资者互动平台表示，公司计划年底投产，主要用紫外正型光刻胶产品，主要对应显示器、封装OLED，第三代半导体等。

此类正性光刻胶在使用时的曝光波长为300-450 nm，曝光波长越短，成像分辨率越高。此类光刻胶的图形特征尺寸最小可达到200纳米。

项目正处在待调试阶段，能否达到预期水平，存在不确定性，请投资者注意风险。

作为半导体制造的核心流程，光刻工艺对于芯片制造来说至关重要，成本约占芯片总成本的35%，耗时约占整个芯片总耗时的50%，而光刻胶是光刻工艺最重要的耗材。

目前全球光刻胶主要企业有日本合成橡胶（JSR）、东京应化（TOK）、住友化学、信越化学、罗门哈斯等，市场集中度非常高，所占市场份额超过85%，在高端EUV光刻胶上甚至占比达95%以上。

如今，无论先进制程，还是成熟制程，全球芯片制造业都在建厂，扩产。国内光刻胶需求量远大于本土产量，且差额逐年扩大，尤其是在高端KrF、ArF等半导体光刻胶。

2021 年一季度，全球光刻胶市场维持增长态势再创新高，达到 5.67 亿美元，较上年同期增长 19.5%。中国大陆光刻胶市场达 1.1 亿美元，较上年同期增长 52.7%。

在此背景下，国内光刻胶厂商快马加鞭，加快前进的步伐，近年在半导体光刻胶关键技术领域取得突破。目前，国内涉足研发KrF级别以上产品的公司有徐州博康、彤程新材、南大光电、上海新阳、晶瑞股份。

徐州博康：从事光刻材料领域中的中高端化学品业务，旗下汉拓光学产品线覆盖电子束光刻胶、ArF光刻胶、KrF光刻胶、I线光刻胶等半导体光刻胶系列产品。

此前获华为3亿投资，今年投建新生产基地，建成后将拥有年产1100t光刻材料的产能，年产值20亿元，利税超亿元。

彤程新材：唯一被SEMI列入全球光刻胶八强的中国光刻胶公司，其ArF光刻胶已经量产，旗下北京科华的KrF光刻胶已经批量供应国内主要的12吋、8吋晶圆厂。

上海新阳：积极布局光刻胶业务，主攻KrF和干法ArF光刻胶，目前已进入产能建设阶段。自主研发的KrF光刻胶产品已通过客户认证，并成功取得订单，暂无EUV光刻胶研发计划。公司预计KrF厚膜光刻胶可在2022年实现稳定量产销售，ArF光刻胶将于2023年开始量产。

南大光电：专业从事高纯电子材料研发，从前驱体、电子特气、光刻胶三大半导体材料布局。其自主研发的ArF光刻胶可以达到90nm-14nm的集成电路工艺节点，并已经实现产业化。目前，南大光电已经完成2条光刻胶生产线建设。

晶瑞股份：KrF光刻胶已经完成中试，正进入客户测试阶段，ArF光刻胶尚在研发过程中。此前，晶瑞股份曾购买ASMLXT 1900 Gi型ArF浸入式（DUV）光刻机一台，用于高端光刻胶研发。