在拜登政府强力施压下，荷兰政府周三（8 日）证实，ASML在夏季前将禁售部分「最先进」的深紫外光（DUV）设备给中国大陆。对此，ASML执行长Peter Wennink警告，美国对大陆采取更严苛的出口限制，迫使大陆全力强化自家半导体产业，ASML比以往任何时候，更加担心自己的技术最终被中国攻破。Wennink提到，美国对大陆实施晶片严厉制裁，中国别无选择，只能打造自己的先进晶片生态系，一旦遭美方切断供应，中国大陆采用任何手段规避西方制裁自己动手建立自己的晶片产业供应链是理所当然的。而最终美国不仅搞不垮中国，很可能适得其反。自2019年以来，ASML研发的最先进极紫外光（EUV）设备已禁止销往中国。如今限制更进一步，ASML将对华限制出口DUV光刻机等半导体技术，加上日本也会本月跟进美国新政，中国芯片制造企业将无法得到新的光刻机设备和服务，这对于中国芯片行业发展有深远影响。据悉，光刻机在芯片制造中扮演关键角色。在半导体制造行业，DUV光刻机可以用于制造7nm及以上制程的芯片，涵盖了大部分数字芯片和几乎所有的模拟芯片，随着先进制程向5nm及以下进化，EUV成为未来光刻技术和先进制程的核心，主要用于7nm及以下先进芯片制造工艺，荷兰ASML是唯一的供应商。
去年底，华为公布了一项与EUV光刻机相关的专利，能够提升光刻机的精度以及良品率：据介绍，华为的这项专利发明的核心内容，是提供了一种反射镜、光刻装置及其控制方法，能够解决相干光icon因形成固定的干涉图样而无法匀光的问题，而且，华为研制的光刻设备可以在不改变光刻设备与基板的相对位置的情况下制备所需的图案，从而避免了平移步骤和对准步骤，从而提高了处理效率以及在基板上的形成。
先不谈这项专利何时才能落地，但华为此举是否意味着对中国“卡脖子”的光刻机市场终于要迎来破局了呢，又是否代表国内的芯片行业要逐渐跟国外说再见了？
华为此次入局光刻机市场其实是一个很好的信号，意味着国内光刻机市场已经迎来了一个更好的研发布局环境，国产光刻机市场也正迎来一个最好的发展时期，至于何时我们才能见到一台真正印有Made in China的高端光刻机，还得将希望寄予国内的芯片行业。目前国产光刻机产业链已经初具规模，除了华为之外，上海微电子、国望光学、国科精密、华卓精科等国产企业都在光刻机领域略有造诣，几乎所有与光刻机相关的领域国内都有相关的公司与产业分布。靠山山倒，靠人人跑，只有自己最可靠。核心工艺和装备只有掌握在我们自己手中，才能避免受制于人。路漫漫其修远兮，我国要想在光刻机领域实现完全自主国产化，还有很长的路要走。
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