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英飞凌推出业界首款电流密度超2 A/mm²的TLVR四相电源模组,助力提升下一代AI计算性能

已有35次阅读2026-04-01标签:
 202641, 德国慕尼黑讯】全球功率系统和物联网领域的半导体领导者英飞凌科技股份公司(FSE代码:IFX / OTCQX代码:IFNNY发布搭载TLVR(跨电感稳压器)技术的高电流密度四相电源模组,以满足先进AI数据中心对电力需求的不断增长。TDM24745T是一全新OptiMOS™四相电源模组,专为满足一代AI加速器快速增长的电力需求设计模组个功率级、TLVR电感和解耦电容集成到紧凑的9 x 10 x 5 mm³装中提供业界领先的电流密度,高达2 A/mm²以上组合实现了卓越的瞬态性能支持高级GPUAI处理器所需的高电流核心供电适用于横向和垂直的电力传输配置。

 

 

作为业界首款采用此类紧凑封装的TLVR四相电源模组,英飞凌的TDM24745T产品提供高达320 A的峰值电流能力

 

英飞凌科技电源IC与连接系统高级副总裁兼总经理Athar Zaidi表示随着AI工作负以前所未有速度增长对高效且紧凑供电需求比以往任何时候都更迫切借助TDM24745T,我们重新定义了高电流稳压的可能性通过将业界领先的电流密度与先进的TLVR技术集成到极小型封装中,我们帮助客户更好地发挥计算性能、降低能耗,并加速下一代AI数据中心的部署。

 

随着AI数据中心电力需求不断提升电力架构必须变得更加紧凑、灵敏高效TDM24745T通过简化电力架构设计提升功率密度,腾出了额外的PCB空间容纳更多计算资源,并同时提供快的瞬态响应。TLVR架构还能将所需的输出电容降低多达50%,帮助系统设计人员实现更高效、节省空间的布局,从而直接为能源节约和降低AI服务器平台总体拥有成本TCO做出贡献

 

作为业界首款采用此类紧凑封装TLVR四相模组,TDM24745T提供高达320 A的峰值电流能力特别用于一代AI处理器和电流多处理器平台结合英飞凌数字多相控制器,该模组支持灵活可扩展架构,加速在快速演进AI环境中完成系统部署。凭借OptiMOS™-6 MOSFET技术、芯片嵌入式集成技术和专有磁性元件技术模组即使最紧凑AI服务器设计中能提供更的效率热性能,助力打造更节能的AI数据中心

 

TDM24745T电源模组无缝集成英飞凌端到端AI服务器供电生态系统中,涵盖从电网接口到核心处理器供电的所有环节。英飞凌硅(Si)、碳化硅(SiC)和氮化镓GaN技术的综合优势,提供全面可扩展的解决方案,助力实现AI优化数据中心架构的出色效率、可靠性和功率密度。

 

供货情况

 

欲了解更多关于TDM24745T OptiMOS™四相电源模组的信息,敬请访问:英飞凌官网

 

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