在此背景下，2026年9月8日，青岛思锐智能受邀出席行家说Display主办的“Micro AR眼镜与Mini LED背光画质进阶趋势分析会”，副总经理陈祥龙发表《ALD助力AR发展：从微显示到光波导》专题演讲。
同时，思锐智能作为参编单位参与发布《2026 AR眼镜光学显示调研白皮书》，重点承担了AR用MicroLED关键工艺及核心设备章节的编写，系统阐述了ALD技术的界面钝化方案及其在AR领域的应用布局。
MicroLED芯片的尺寸正不断微缩，但芯片越小，侧壁面积占比越大，由侧壁缺陷引起的非辐射复合就越严重，器件发光效率随之明显衰减——这一问题在红光MicroLED上更为突出，已成为制约AR微显示性能提升的关键瓶颈。
针对这一问题，思锐智能基于ALD技术提出“等离子体预处理—界面插层—钝化层”三步界面钝化方案。相关应用结果显示，该方案能显著提升器件在低电流状态下（AR应用）的发光效率；同时，高电流工作状态下发光效率也有一定的提升，对基于MicroLED的CPO光互连等应用也有显著优化。
演讲期间，思锐智能同步分享了面向AR光机，CPO光互连，ADB车载应用的MicroLED侧壁钝化提升发光效率（EQE），多层膜结构提升出光效率（LEE）的最新进展。
在MicroLED显示芯片之外，ALD技术正加速向AR光学系统的核心传输器件——光波导延伸。以树脂基衍射光栅为代表的光波导方案虽具备量产制造优势，但受限于树脂本身的折射率上限、可靠性问题，在复杂倾斜微纳结构上的保形镀膜、光损耗控制及大视场角实现上面临严峻瓶颈。针对这一行业挑战，思锐智能提供了独有的解决方案。
思锐智能全资子公司芬兰Beneq 光学专家John Rönn博士在光博会大会真空镀膜论坛的演讲中指出，依托创新的空间型ALD（Spatial ALD）技术，可在光栅微结构表面实现精准的高保形的原子级致密填充。通过沉积超高折射率、极低损耗的TiO₂膜层，不仅有效弥补了树脂基底折射率的不足，还显著提升了系统的衍射效率与视场角。同时，结合极低应力的成膜工艺，显著增强了器件长期的机械稳定性与光学可靠性。更为关键的是，该技术突破了传统工艺的速度瓶颈，以较高的量产产能和极低的单片制造成本，为轻量化AR眼镜的大规模量产提供了可行路径。
作为ALD技术发源地、拥有超40年ALD设备与工艺开发经验的企业，思锐智能的ALD技术已获得国内外头部客户认可，在化合物半导体领域全球出货量领先。面对AR应用带来的挑战，依托思锐智能在化合物半导体及光学领域的长期积累，开发了面向“发光效率”，“光提取效率”，“准直效率”和“光机传输效率”提升的系列化ALD解决方案，已构建起贯穿MicroLED、Micro OLED与光波导等主流AR场景的ALD设备与工艺矩阵。
在设备交付方面，面向MicroLED的ALD设备已成为行业主流厂商的重要基准选择，覆盖欧洲，北美和亚太地区主要客户，其中国内市场获得8家一线厂商采用，持续进入客户量产体系。在光波导领域，公司8英寸量产设备已顺利实现客户交付，12英寸前沿机台也正加速推进研发验证，进一步完善从MicroLED到AR光波导的ALD装备布局。
