作为国内首个成功应用于GaN基LED制程的AlN 薄膜缓冲层沉积设备，AlN PVD设备打破了国际大厂的技术垄断，第一次与国际同行同时发布，并以其优越的技术性能领先于同行获得客户订单。经过近三年的市场考验，北方华创AlN PVD设备已经成为LED生产线上最主流的工艺设备，产品技术国际领先，工艺技术性能和稳定性均明显超越国际竞争对手。
AlN PVD设备是北方华创与用户(LED产线)携手开发的硕果。AlN PVD工艺设备能够有效提升芯片亮度、节省MOCVD工艺时间，切实为客户提升产品竞争力、降低生产成本，创造价值。国内最早将AlN制程融进LED工艺的几家大厂也因此获得了市场的可观回报。对北方华创来说，一张张客户批量的重复采购订单，是AlN PVD给客户带来价值的最佳印证。
2017年，北方华创AlN PVD产品大陆市场占有率超过90%，并远赴大洋彼岸，展示了高端工艺装备“中国制造”的风采。北方华创愿与客户紧密携手，为UV LED 、Mini LED 、Mirco-LED等多个新兴LED工艺提供设备支持。并不断扩展应用领域，为硅、碳化硅基片的MEMS声波压电传感、功率器件HEMT等AlN薄膜制备工艺提供设备支撑。
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