德国柏林亥尔姆茨材料和能源研究中心与联邦材料测试与研究机构合作，首次在银材料底层上完成光刻纳米结构，为未来光计算机数据处理、新型电子器件制造开辟了新的途径。这项成果刊登在美国化学学会的《应用材料和界面》杂志上。 　　要想在材料表面获得精细结构图样，最佳选择是采用电子显微镜扫描技术，利用电子束在其表面进行复杂的光刻。这项技术已应用在铂、金、铜等许多金属材料纳米结构制作上，但还没有成功应用于银材料。银在电子工业领域有着广泛应用前景。   　　此次，研究小组成功地利用光刻技术在银材料上制作[登陆后可查看全文]